公告 氧化膜等離子刻蝕設備-公開招標公告 (招標編號：0613-254022122071)
招標項目所在地區：上海市


一、招標條件 本氧化膜等離子刻蝕設備（招標項目編號：0613-254022122071），已由項目審批/核準/備案機關批準，項目資金來源為/，招標人為上海華虹宏力半導體制造有限公司。本項目已具備招標條件，現進行公開招標。


二、項目概況和招標范圍 項目規模：- 。
招標內容與范圍：/
本招標項目劃分為標段1 個標段，本次招標為其中的：
001 氧化膜等離子刻蝕設備


三、投標人資格要求 001 氧化膜等離子刻蝕設備：

1、投標人應提供營業執照、資質證明、經營范圍。
2、投標人應具有100臺以上與本項目類似的相關行業項目業績（須提供合同復印件或用戶的書面證明）。
3、除設備原制造商以外的投標人應提供每一臺設備的貨源證明（機器序列號和銘牌照片）。
4、具有完善的售后服務制度和良好的售后服務記錄，并能提供本地良好的支持服務。