招標公告 1. 招標條件 本招標項目高精度無掩膜光刻系統(tǒng)招標人為中國航空工業(yè)集團公司西安飛行自動控制研究所，招標項目資金已落實。該項目已具備招標條件，現對高精度無掩膜光刻系統(tǒng)采購進行國內公開招標。
2. 項目概況與招標范圍 2.1 招標編號：ZKX20260341A012
2.2 招標項目名稱：高精度無掩膜光刻系統(tǒng)
2.3 數量：1臺
2.4 設備用途及系統(tǒng)組成：
設備用途：高精度無掩膜光刻系統(tǒng)采用先進的數字光刻技術，無需掩模版即可直接將圖形轉移到涂有光刻膠的襯底上。該設備具備高套刻精度和高曝光速度的特點，適用于集成光子芯片研發(fā)及量產環(huán)節(jié)中的電極圖形曝光：在快速研發(fā)階段，可高效處理大面積、低分辨率要求的電極圖形；在量產階段，因其無需定制掩模板的特性，有助于降低成本和縮短周期，實現高效的電極圖形曝光。
系統(tǒng)組成：高精度無掩膜光刻系統(tǒng)主要由曝光系統(tǒng)，對準系統(tǒng)，環(huán)控系統(tǒng)，軟件系統(tǒng)，數據系統(tǒng)五大模塊組成。
2.5 交貨地點：西安（用戶現場指定地點）。
2.6 交貨期：合同簽訂生效后6個月內。
3. 投標人資格要求：
3.1 投標人須具有獨立承擔民事責任能力的在中華人民共和國境內注冊的法人或其他組織，具備有效的營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書或其它營業(yè)登記證書。
3.2 財務要求：投標人應附2024年經會計師事務所或審計機構審計的財務會計報表，包括審計報告正文、資產負債表、現金流量表、利潤表的復印件。投標人的成立時間少于上述規(guī)定年份的，應提供成立以來的財務報表。投標人為科研院所、高等院校等事業(yè)單位的可提供經審計的或單位內審的2024年財務報表。