配位劑提供孤對電子給金屬離子，通過配位鍵形成配合物。被配位的金屬已經失去簡單離子的特性，在廢水處理中難以沉淀分離。

　　以銅一氨配合物為例說明配位劑對含銅廢水處理的影響。酸性鍍銅是應用最廣的電鍍工藝之一。清洗廢水中的銅以簡單離子形式存在。向廢水中加入氫氧化鈉，調節pH值到9，溶解性的銅離子轉化為不溶性的氫氧化銅，再經過固液分離即可達標。然而，在酸性鍍銅廢水中混入了氨水，銅離子會與氨結合生成銅一氨配合物。此時，加入氫氧化鈉，調節pH值到9甚至更高，不會產生氫氧化銅沉淀。由于銅一氨配合物非常穩定，所以氨水的引入就成為銅離子超標的重要因素。類似的例子還有很多。如普通鍍鎳的廢水容易處理，而中性鍍鎳的廢水很難處理。又如酸性鍍鋅的廢水容易處理，而銨鹽鍍鋅的廢水很難處理。由此可以推斷：鍍液中含有配位劑，廢水處理難度就高。具體聯系污水寶或參見http://www.dongaorq.cn更多相關技術文檔。

　　各種含配位劑的廢水的處理難度不盡相同，這取決于配合物的穩定常數。穩定常數越小，配合物越穩定，廢水也越難處理。可以從化學手冊中查找配合物的穩定常數，用于判斷廢水處理的難易程度。鎳一檸檬酸配合物的穩定常數為10-4;3，而鎳一EDTA配合物的穩定常數為10-18;6，后者小于前者。這說明鎳一EDTA配合物比鎳一檸檬酸配合物更加穩定，廢水更難處理。鎳一氰配合物的穩定常數為10-30’3，非常穩定。這就提醒我們應該避免含鎳廢水與含氰廢水互混，否則鎳和氰都可能超標。